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首頁 > 期刊 > 中國陶瓷 > 陰極電弧制備AlTiN和TiAlSiN涂層的性能及銑削性能 【正文】

陰極電弧制備AlTiN和TiAlSiN涂層的性能及銑削性能

作者:吳雁; 王犁; 陳強; 黃彪; 張而耕; 周瓊; 鄭剛 上海應(yīng)用技術(shù)大學(xué)上海物理氣相沉積(PVD)超硬涂層及裝備工程技術(shù)研究中心; 上海201418

摘要:采用陰極電弧離子鍍技術(shù)在YG10硬質(zhì)合金試片及銑刀上分別制備了厚度為為2.604μm和2.798μm的納微米AlTiN和TiAlSiN涂層,采用實驗方法研究涂層的微觀結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能,以及涂層刀具銑削HT200時的銑削性能。實驗研究結(jié)果表明:制備的AlTiN及TiAlSiN涂層的硬度分別為29.14 GPa及38.94 GPa,Si元素的添加細(xì)化涂層組織結(jié)構(gòu),TiAlSiN涂層的斷面結(jié)構(gòu)更為致密,涂層的硬度及耐磨性顯著增加。AlTiN及TiAlSiN涂層與基體的結(jié)合強度等級分別滿足工業(yè)等級的HF3、HF1要求,TiAlSiN涂層表現(xiàn)出較好的膜基結(jié)合性能。相較于AlTiN涂層,TiAlSiN涂層刀具表現(xiàn)出較小的切削力。此外,TiAlSiN涂層比AlTiN涂層擁有較好的抵抗磨損的能力。

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