《Optics And Laser Technology》雜志影響錄用的因素有哪些?
來(lái)源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:49:30 1871人看過(guò)
《Optics And Laser Technology》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。
《Optics And Laser Technology》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:
年發(fā)文量:《Optics And Laser Technology》雜志年發(fā)文量為:1281篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。
質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。
期刊分區(qū):《Optics And Laser Technology》雜志在中科院的分區(qū)為2區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q1。
論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。
影響力與排名:《Optics And Laser Technology》雜志IF影響因子為:4.6。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對(duì)較低。
審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。
投稿數(shù)量:在特定時(shí)期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會(huì)導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。
SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì),投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。
《Optics And Laser Technology》雜志簡(jiǎn)介
中文簡(jiǎn)稱:光學(xué)和激光技術(shù)
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:OPT LASER TECHNOL
出版商:Elsevier Ltd
出版周期:Bimonthly
出版年份:1968年
出版地區(qū):ENGLAND
ISSN:0030-3992
ESSN:1879-2545
研究方向:物理 - 光學(xué)
《光學(xué)與激光技術(shù)》旨在為光學(xué)和激光技術(shù)開(kāi)發(fā)和應(yīng)用相關(guān)的科學(xué)和工程研究領(lǐng)域提供廣泛的高質(zhì)量研究和評(píng)論論文的出版載體。描述這些領(lǐng)域原創(chuàng)工作的論文在接受出版之前要經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的評(píng)審。
光學(xué)與激光技術(shù)的范圍包括但不限于以下領(lǐng)域:
?所有類型激光器的開(kāi)發(fā)
?光電器件和光子學(xué)的開(kāi)發(fā)
?新光子學(xué)和光學(xué)概念的開(kāi)發(fā)
?傳統(tǒng)光學(xué)、光學(xué)儀器和組件的開(kāi)發(fā)
?光學(xué)計(jì)量技術(shù),包括干涉測(cè)量和光纖傳感器
?激光雷達(dá)和其他非接觸式光學(xué)測(cè)量技術(shù),包括熱和流體流動(dòng)中的光學(xué)方法
?激光在材料加工、光學(xué)無(wú)損檢測(cè)顯示(包括全息術(shù))和光通信中的應(yīng)用
?激光安全領(lǐng)域的研究和開(kāi)發(fā),包括對(duì)激光應(yīng)用造成的危害的研究(激光安全、危害激光煙霧)
?光學(xué)計(jì)算和光學(xué)信息處理的發(fā)展
?新光學(xué)材料的發(fā)展
?新光學(xué)表征方法和技術(shù)的發(fā)展
?量子光學(xué)的發(fā)展
?光輔助微納米制造方法和技術(shù)的發(fā)展
?納米光子學(xué)和生物光子學(xué)的發(fā)展
?成像處理和系統(tǒng)的發(fā)展
在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為物理與天體物理2區(qū), 小類學(xué)科為OPTICS光學(xué)2區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 是 | 否 |
名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
聲明:以上內(nèi)容來(lái)源于互聯(lián)網(wǎng)公開(kāi)資料,如有不準(zhǔn)確之處,請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行修改。