投稿《中國博物館文化產(chǎn)業(yè)研究》需要什么條件？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2025-05-20 11:54:11 1119人看過
《中國博物館文化產(chǎn)業(yè)研究》雜志是一本在科技研究領(lǐng)域具有一定影響力的學(xué)術(shù)期刊，由中國博物館協(xié)會文創(chuàng)產(chǎn)品專業(yè)委員會主管、中國博物館協(xié)會文創(chuàng)產(chǎn)品專業(yè)委員會主辦的期刊，創(chuàng)刊于2015年
《中國博物館文化產(chǎn)業(yè)研究》雜志投稿需要滿足以下條件：
<一>“作者簡介”請注明工作單位，學(xué)位學(xué)歷，職稱職務(wù)，研究方向，并在稿件中附上作者的聯(lián)系電話和通訊地址。
<二>引用報刊資料，請注明作者姓名、文章標(biāo)題、刊名、刊期 ；引用書籍資料，請注明作者姓名、書名、出版社、出版時間和頁碼 ；引用互聯(lián)網(wǎng)資料，請注明作者姓名、文獻(xiàn)名、網(wǎng)址和時間。
<三>本刊作為匯編作品，版權(quán)屬本刊編輯部所有。
<四>標(biāo)題層次一律用阿拉伯?dāng)?shù)字連續(xù)編號，不同層次的數(shù)字之間加下圓點(diǎn)相隔，最末數(shù)字后不加標(biāo)點(diǎn)，如第一級標(biāo)題用“1”、第二級標(biāo)題用“1.1”、第三級標(biāo)題用“1.1.1”等。
<五>摘要：概括論文研究的方法、結(jié)果和主要結(jié)論，300字左右。
該雜志旨在推動科技理論與實(shí)踐的創(chuàng)新與發(fā)展，為廣大科技工作者、研究人員提供一個學(xué)術(shù)交流的平臺，主要是探索科技規(guī)律，服務(wù)科技實(shí)踐。通過發(fā)表高質(zhì)量的科技研究成果，促進(jìn)科技領(lǐng)域的學(xué)術(shù)交流與合作，為科技改革與發(fā)展提供理論支持和實(shí)踐指導(dǎo)。
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